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在2002年的時候，承擔攻堅專案任務的上海微電子裝備（集團）股份有限公司就這樣正式成立了，總經理就是賀榮明，公司成立後，他就帶著技術團隊去歐洲、美國考察學習，歐洲專家很瞧不起他們，於是就說出了：給全套圖紙，中國人也造不出光刻機的話...

綜合來看，現在整個半導體市場都在想方設法的想要繞開EUV光刻機的限制，因為大家誰也不想被ASML公司的EUV光刻機給卡脖子發展，就連老美也一樣...

也就是說，臺積電需要用EUV光刻機才能製造的5奈米晶片，中芯國際採用DUV光刻機中的ARFi型光刻機就可以實現，由於DUV光刻機比EUV光刻機的售價要低得多，而且SAQP技術還具備很強的經濟性，所以在晶片製造成本上要具備很強的優勢...

ASML公司意識到中國企業在製造光刻機上遲早出現質的突破，因此跟著美國圍堵中國已經變得毫無意義，美國人自然比他們更加清楚，所以他們才會著手繞開光刻機技術...

ASML積極參與中國市場的佈局，渴望獲得更多的出貨機會，若中國廠商的光刻膠產品落地產業鏈，也會加快產能輸出，為提高國產晶片自給率帶來助力...

近日，南大光電再次傳來重要進展，ArF光刻膠已透過兩家客戶驗證，一家是儲存晶片製造企業，另一家是邏輯晶片製造企業，還有多款產品正在多家客戶同時進行認證...

2造臺光刻機有多難光刻技術是晶片製造工藝中最關鍵的一步，晶片技術之所以能在過去 60 年間，一步步從百微米發展到如今的 3nm，光刻機功不可沒，沒有光刻機，摩爾定律或許無法延伸到現在...

但華為並沒有放棄晶片研發，而且還放出了多個晶片相關的專利，甚至包括光刻機...

然而在中國半導體產業有序發展的階段，美國卻開始插手了，為了限制中國晶片的發展，美國的手段也很明確，就是對荷蘭光刻機生產企業ASML進行一系列施壓...

面對今天的困境，人們可能很難想象，中國不僅曾經獨立研發出光刻機，把與美國的差距縮短到只有7年，而且還是在國外對我們封鎖禁運的情況下完成的...

最近網上出現了俄羅斯自研光刻機的訊息，相關訊息稱俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所正在開發俄羅斯首套半導體光刻裝置，並且對外宣稱這套光刻機可以用於生產7nm工藝的晶片，預計投產時間在2028年...

EUV光刻機是高階晶片製造的核心裝置，全球只有荷蘭光刻巨頭ASML能夠生產，但由於其產線上含有大量的美國技術和配件，ASML始終無法向中企出口該裝置...

中國5G技術的發展和這一次晶片的成功突破，將會對美國的傳統晶片、通訊公司造成重大的影響，也會讓他們對中國刮目相看...

眾所周知，華為在5G元器件、作業系統等業務方面，近兩年都逐漸實現了自給自足，就連高階手機的國產化率也達到了80%以上，唯獨高階Soc晶片因老美限制ASML對大陸市場出口EUV光刻機而無法突破...

根據臺積電和ASML透露的訊息可知，全新一代High NA EUV光刻機主要用於生產製造2nm等製程的晶片，臺積電將會在2024年獲得該光刻機...

主要用於口腔掃描器器中的光學掃描頭，等光學器件2、半導體如果說把牙科描述成生命科學比較文縐縐的話，公司招股書引導讀者把重心放在DUV光刻機配件上，就多少有點誤導了...

此外中國的儲存晶片、5G射頻晶片等行業也有諸多留學歸國人才參與其中，甚至國記憶體儲晶片行業還迎來了日本前儲存晶片巨頭爾必達創始人坂本幸雄，凸顯出中國晶片產業的繁榮正在吸引包括海外華人在內的諸多晶片技術人才，這將推動中國晶片持續突破...

半導體材料也是晶片生產的重要環節，此前中芯國際的14nm所採用的光刻膠來自美國，這讓業界看到了受制於人的影響，這兩年也已陸續解決光刻膠的國產化，自然上述的氖氣、氪氣、氙氣等用於晶片生產的半導體材料也是國產化的目標，由此中國逐漸成為半導體材料...

而大多數人則認為造光刻機更難，因為目前全世界能造出高精端光刻機的國家只有荷蘭和日本，而全球能造原子彈的國家卻有8個...

蘋果推出M1 Ultra晶片後，華為就表示未來將會推出堆疊技術晶片，用面積換效能，擺脫對高階EUV光刻機的依賴，讓華為有高效能晶片可用...