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綜合來看，現在整個半導體市場都在想方設法的想要繞開EUV光刻機的限制，因為大家誰也不想被ASML公司的EUV光刻機給卡脖子發展，就連老美也一樣...

2造臺光刻機有多難光刻技術是晶片製造工藝中最關鍵的一步，晶片技術之所以能在過去 60 年間，一步步從百微米發展到如今的 3nm，光刻機功不可沒，沒有光刻機，摩爾定律或許無法延伸到現在...

所以，此番的1-beta DRAM，只是美光把DUV的能力發揮到DRAM工藝的極致啦，就和邏輯晶片Fin-FET時期的領先者臺積電努力把Fin-FET的油水榨乾到了2奈米一個道理呢，並不存在“繞過 EUV 光刻機”的事兒...

EUV光刻機是高階晶片製造的核心裝置，全球只有荷蘭光刻巨頭ASML能夠生產，但由於其產線上含有大量的美國技術和配件，ASML始終無法向中企出口該裝置...

眾所周知，華為在5G元器件、作業系統等業務方面，近兩年都逐漸實現了自給自足，就連高階手機的國產化率也達到了80%以上，唯獨高階Soc晶片因老美限制ASML對大陸市場出口EUV光刻機而無法突破...

根據臺積電和ASML透露的訊息可知，全新一代High NA EUV光刻機主要用於生產製造2nm等製程的晶片，臺積電將會在2024年獲得該光刻機...

蘋果推出M1 Ultra晶片後，華為就表示未來將會推出堆疊技術晶片，用面積換效能，擺脫對高階EUV光刻機的依賴，讓華為有高效能晶片可用...

要知道，在前不久美國才剛剛宣佈決定，10月份正式實施新的晶片規則，將把對華的出口限制擴大到14nm製程，嚴管14nm以下半導體裝置、材料、技術出口到中國大陸市場...

同樣ASML也一直在爭取將EUV光刻機供貨給中國市場，如果能夠從三星這方面進行突破的話，或許也能夠為自己帶來更多的機會，同時ASML也不斷在推動新技術的研發...

這段時間，很多媒體報道稱，因為電費太誇張了，所以臺積電預計到年底，要關掉一些EUV光刻機，以節約能源...

但在老美的晶片法案正式釋出之後，一切關鍵點也隨之透露，一夜之間，ASML喪失了原本的“自信”，很有可能此前的一切努力都白費了，那是否還能保住中國市場的DUV光刻機出貨權呢...

很顯然，如果一旦如此，那麼這就和當初的EUV光刻機被限一樣的局面，不管是SK海力士，還是三星以及其他的企業在我們國內擴產，要是涉及到了老美所認為的先進工藝製程，也需要在獲得晶片製造裝置上透過老美的許可...

但實際上，各國對EUV光刻機的需求並不小，只是奈何市場規則，ASML無法做到EUV光刻機的自由出貨，既然如此，那便展開自主研發，於是關於頂級光刻機的研究，各國紛紛行動...

據e公司報道，ASML每年逾10億歐元的研發投入，連續20年才研發出最新一款光刻裝置——EUV光刻機...

這樣算下來，其實還是很不錯的，一臺EUV光刻機，售價10億元，一年用掉900萬度電，用電成本是1000多萬，而生產5億顆晶片，一顆只要賺2塊多錢，就把成本賺回來了...

那麼，就是說一臺EUV光刻機一天能生產60萬片晶片...

但事實上，光刻系統的總成本可能會更高，因為我們需要其他新裝置、新光掩模和不同的光刻膠來實現高數值孔徑 EUV...

這是這家公司近幾年最重大的決策，也是最近一手炮製的營銷手段，目的不是為了緩和全球晶片市場對光刻機的市場需求，而是想告訴你們，我們光刻機數量有限，你們快點過來搶購，這才是最關鍵的資訊點，之所以這麼做，無疑是因為美國方面的原因，所以才不得不採取...

進入新一代EUV曝光技術，2018年ASML的NXE：3400B已在客戶端測試中，實現每小時125片晶圓的產量里程碑，更達成80%以上妥善率（availability）...

79億歐元的新增訂單中，EUV光刻機的訂單金額佔據了近一半，達到了29億歐元...