晶片被譽為“現代工業的糧食”，其重要性越來越大。因此，晶片製造就顯得更加重要。但要做好晶片製造，就需要解決晶片製造裝置、製造材料和設計軟體等問題。

一直以來，關注較多的是光刻機這個最重要的晶片製造裝置。其實，晶片製造材料光刻膠的重要性也不遜於光刻機。如今，南大光電再傳新進展，開始打破日美壟斷！

光刻機之所以至關重要，主要是因為光刻工藝是晶片製造過程中最重要的環節，在整個晶片總耗時中佔比達到50%左右。而光刻過程中的七大流程，首先就是要塗膠。

這裡塗的膠就是光刻膠，並且光刻膠跟光刻機一樣，其精度同樣制約著晶片製程的前進，就是不同製程節點就需要不同的光刻機。比如，7nm以下就需要EUV光刻膠。

因此，光刻膠也是晶片製造過程中必不可少的材料之一，其重要性甚至比肩光刻機。

光刻膠的種類非常多，晶片製造用的光刻膠基本對標光刻機，根據所適配的刻蝕用光的波長不同，市場上半導體光刻膠主要分為g線、i線、KrF、ArF、EUV這幾類。

半導體光刻膠由於純度要求非常高，生產工藝很複雜，需要長期的技術積累，屬於高技術壁壘材料。目前，全球光刻膠市場基本上被日美企業壟斷，自給率不足10%。

光刻膠的追趕相當不易，因為面臨著三大壁壘：專利壁壘、客戶壁壘、裝置壁壘。

首先是專利壁壘。

截止到去年9月，日本光刻膠專利申請量佔46%，美國佔25%，而我國僅佔7%。不過，我國光刻膠專利的申請量正在快速增長，這是好的發展趨勢。

其次是客戶壁壘。

光刻膠驗證時間較長，過程還很繁瑣。光刻膠廠商要持續給客戶送樣，聽取客戶反饋後再改進，這樣反覆有時會超過50多次，過程需要兩三年時間。

因此，光刻膠驗證成功的客戶一般都不願意更換供應商，這就制約了新廠家的發展。

再者是裝置壁壘。

為解決客戶不願意驗證的問題，新進的光刻膠廠商就需要自己購買光刻機，擁有自我驗證能力，以加速驗證過程。然而，光刻機的價格又非常高昂。

購買光刻機無疑就增加了成本，因為光刻機開機成本幾乎跟購置成本相同。為此，我國光刻膠企業只能購買二手光刻機，南大光電、晶瑞股份、上海新陽之前都買過。

不過，即使三大壁壘非常高，我們光刻膠企業也取得了突破進展，尤其是南大光電。

前段時間，南大光電對外宣佈，公司自主研發的Arf光刻膠已經開始大規模投產，可用於14nm及以上製程晶片製造，並且正在向多家下游主要客戶進行光刻膠的驗證。

南大光電還針對同一客戶的不同需求開發了不同的產品，以滿足客戶的多樣化需求。

近日，南大光電再次傳來重要進展，ArF光刻膠已透過兩家客戶驗證，一家是儲存晶片製造企業，另一家是邏輯晶片製造企業，還有多款產品正在多家客戶同時進行認證。

g線、i線、KrF這三種光刻膠國內已經可以量產，但自給率還較低，還需要進一步提升產能。目前，g線、i光刻膠自給率約為20%，晶瑞股份、北京科華微等在做。

上海新陽主攻KrF和幹法ArF光刻膠，已經進入產能建設階段，但自給率不足5%。

南大光電的ArF光刻膠可用於90-14nm，正是DUV光刻機需要配套使用的。這次通過了兩家客戶驗證，南大光電正式成為了透過產品驗證的第一家國產ArF光刻膠企業。

即使在國際上，ArF光刻膠也只有少數幾家公司可以做到產品級配方的調製。光刻膠產品通過了客戶驗證，就可以批次供貨了。因此，南大光電在這方面打破了日美壟斷。

光刻膠的落後將會嚴重製約我們的晶片製造發展，尤其是高階晶片，ArF光刻膠突破，接下來必然就是EUV光刻膠，儘管目前我們還用不到，但必須提前進行技術研發。

目前，我們正在大舉擴產成熟製程產能，ArF光刻膠突破將進一步加速中國芯前進！