上海剛剛在2022年9月14號，官宣了最新晶片產業鏈的研發成果，晶片14奈米量產和晶片產業鏈核心裝置和矽片材料純國產突破。

中芯國際上海

晶片掩膜

科普一下90nm光刻機的實質性意義，90奈米光刻機經過兩次曝光，可以得到45nm的晶片，三次曝光可以達到22nm的晶片，甚至多次曝光可以得到7奈米晶片，但是曝光次數越多，晶片的良品率就越低，所以一般情況下是量產能夠控制在28nm的商業化水平。

上海微電子2021年底就宣稱即將交付28nm光刻機，28nm光刻機經過多重曝光能夠生產14nm晶片，在極限狀態下甚至可以生產10nm的晶片，這都是純國產光刻機。

2021年中芯國際向ASML購買了價值11億美元的DUV光刻機，據說今年2022一季度ASML供貨了23臺給中國，宣傳量產的14nm工藝晶片應該就是利用這批進口的DUV光刻機，DUV光刻機又稱深紫外線光刻機，主要用於10～130nm光刻機，相對於EUV光刻機，DUV光刻機是ASML公司二線的產品。

所以現在，國內晶片廠商目前被制裁的如華為依然要等下一階段國產光刻機突破才能有14奈米甚至5奈米晶片商業化量產可能。

當然，民用商業化晶片製造符合可競爭的成本控制才有未來，對軍工體系需求這種多次曝光成本幾乎可以忽略不計，那些不是民用幾千塊的商品，而是幾萬幾十萬甚至幾千萬幾百億的國之定海神針和安全防護罩。