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在2002年的時候，承擔攻堅專案任務的上海微電子裝備（集團）股份有限公司就這樣正式成立了，總經理就是賀榮明，公司成立後，他就帶著技術團隊去歐洲、美國考察學習，歐洲專家很瞧不起他們，於是就說出了：給全套圖紙，中國人也造不出光刻機的話...

綜合來看，現在整個半導體市場都在想方設法的想要繞開EUV光刻機的限制，因為大家誰也不想被ASML公司的EUV光刻機給卡脖子發展，就連老美也一樣...

也就是說，臺積電需要用EUV光刻機才能製造的5奈米晶片，中芯國際採用DUV光刻機中的ARFi型光刻機就可以實現，由於DUV光刻機比EUV光刻機的售價要低得多，而且SAQP技術還具備很強的經濟性，所以在晶片製造成本上要具備很強的優勢...

ASML公司意識到中國企業在製造光刻機上遲早出現質的突破，因此跟著美國圍堵中國已經變得毫無意義，美國人自然比他們更加清楚，所以他們才會著手繞開光刻機技術...

ASML積極參與中國市場的佈局，渴望獲得更多的出貨機會，若中國廠商的光刻膠產品落地產業鏈，也會加快產能輸出，為提高國產晶片自給率帶來助力...

但華為並沒有放棄晶片研發，而且還放出了多個晶片相關的專利，甚至包括光刻機...

然而在中國半導體產業有序發展的階段，美國卻開始插手了，為了限制中國晶片的發展，美國的手段也很明確，就是對荷蘭光刻機生產企業ASML進行一系列施壓...

EUV光刻機是高階晶片製造的核心裝置，全球只有荷蘭光刻巨頭ASML能夠生產，但由於其產線上含有大量的美國技術和配件，ASML始終無法向中企出口該裝置...

根據臺積電和ASML透露的訊息可知，全新一代High NA EUV光刻機主要用於生產製造2nm等製程的晶片，臺積電將會在2024年獲得該光刻機...

同樣ASML也一直在爭取將EUV光刻機供貨給中國市場，如果能夠從三星這方面進行突破的話，或許也能夠為自己帶來更多的機會，同時ASML也不斷在推動新技術的研發...

但在老美的晶片法案正式釋出之後，一切關鍵點也隨之透露，一夜之間，ASML喪失了原本的“自信”，很有可能此前的一切努力都白費了，那是否還能保住中國市場的DUV光刻機出貨權呢...

但實際上，各國對EUV光刻機的需求並不小，只是奈何市場規則，ASML無法做到EUV光刻機的自由出貨，既然如此，那便展開自主研發，於是關於頂級光刻機的研究，各國紛紛行動...

就在近日，臺積電的劉德音表示，臺積電不能出現任何供應鏈上的意外，不然的話就沒有辦法運作，到時候我們中國大陸的先進晶片供應將中斷...

在DUV光刻機上，ASML的技術可以說和老美沒有什麼關係，雙工件臺、浸沒系統等核心技術都是來自於ASML，所以ASML公司自然也不想受到老美的限制，而且DUV光刻機作為成熟的光刻機，在技術領域沒有很高的壁壘，現在如果不出貨，那麼只會倒逼著大...

據e公司報道，ASML每年逾10億歐元的研發投入，連續20年才研發出最新一款光刻裝置——EUV光刻機...

鑑於以上三方面，預示著未來光刻機需求將會逐步減少，為此ASML總裁才會在這個時候再次出來發聲，利用現在全球缺芯問題，發出警告近兩年光刻機產能都不足...

那麼，就是說一臺EUV光刻機一天能生產60萬片晶片...

此次ASML光刻機於2021年1月19日運抵蘇州進入晶瑞高階光刻膠研發實驗室，對於ASML光刻機的到來該公司也舉行了簡單的歡迎儀式...

又一家“臺積電”誕生據訊息稱，ASML計劃在未來三年內交付160臺光刻機，用於解決全球“晶片荒”的難題，不過，這些光刻機的交付物件並不明朗，但就目前的局勢來看，臺積電和三星很可能會成為局外人...

到那個時候，可能ASML現在壟斷的全球光刻機領域市場，將會被中國企業搶去很大一部分，甚至於自己失去現在的市場...